芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、基带芯片厂含酸性尾气概述
心片加工历程中会生成不少呈酸性烟气,主要來出自于刻蚀、的洗涤、扩散转移等工序阶段。等等烟气化学成分多样化,大部分分为低于两种:
氟化物(HF、SiF₄等)
:基本原于刻蚀加工,兼有强蚀化性和致癌性。
氯化氢(HCl)
:典型于冲洗和刻蚀全过程,溶于于水养成咸性盐溶液。
硝酸钠雾(H₂SO₄)
:用于晶圆进行维护清洁,印刷废气中包含有细微液滴,易形成了酸雾。
氮硫化物(NOx)
:一部分温度高工艺设备会发生NOx,还具有促进性且易型成光电学彩色烟雾。
一些印刷废气这不仅蚀化设施设备,还可能会对生态导致的非常严重破坏,往往一定路经有效补救也能的排放。
二、偏酸的废气办理困惑与重要环节
(1)除理常见问题
材质复杂化
:各种工艺设计生成的气体物质相互影响大,需重视性治理 。
盐浓度下跌大
:生产的的过程 中尾气进行占有量下跌不维持,对操作装备的适应性能性需要高。
蚀化性强
:咸性气体会心得结垢管路和设备,需适用耐结垢的原材料。
排放物条件从紧
:电源芯片厂大部分需具备《臭氧层感染物总合废气细则》(GB 16297-1996)等法规标准符合要求。
(2)补救步骤
预进行处理
:用于消防喷淋塔或自吸式物理吸附出掉大顆粒物和要素呈酸性有害气体。
基本点加工处理
:经常用到湿式洗滌(碱液结合)、溶解法(活力性炭、氧分子筛)或丙烷燃烧法(RTO)。
后正确处理
:除雾提升装置彻底清除细小液滴,保障标准减排。
自动化化控制
:24小时评估烟粉尘溶度,调正治理性能参数以从而提高效益率。
三、特色事例解读
鑫霖环保1:某國際电源芯片大型厂氟化氢(HF)有机废气治理加工处理业务
烟气显著特点
:
一般成份:HF(有机废气浓度50-200mg/m³)、氢化物发生器SiF₄
风速:20,000m³/h
工作温度:超低温
正确处理计划
:
有级消防喷淋挥发
:
一号级采取NaOH氢氧化钠溶液喷淋清洗,洗去大这部分HF。
第一级用Ca(OH)₂氢氧化钠溶液进每一步自净,生产CaF₂沉定。
除雾安装
:有效食物纤维除雾器弄掉携带液滴。
自然化操作
:pH在线上监测站,定时投加确认结合学习效率。
整理效果好
:
HF产生密度<1mg/m³,除去率>99%。
机系统自动运行增强,检修的利润高。